LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films: Material and Applications in Integrated Circuit Technology

LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films: Material and Applications in Integrated Circuit Technology
von Habraken, F.H.P.M.
Springer
9783540539544
Jahr: 1991
159 Seiten
Broschiert
Bestellnummer: 1598209

Beschreibung
Das hier angebotene Buch stammt aus einer teilaufgelösten wissenschaftlichen Bibliothek und trägt die entsprechenden Kennzeichnungen (Rückenschild, Instituts-Stempel...) - Schnitt und Einband sind etwas staubschmutzig - der Buchzustand ist ansonsten ordentlich und dem Alter entsprechend gut. Text in ENGLISCHER Sprache!